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Shallow phosphorus diffusion profiles in silicon : J. C. C. Tsai, Proc. IEEE57, No. 9, September (1969), p. 1499

Shallow phosphorus diffusion profiles in silicon : J. C. C. Tsai, Proc. IEEE57, No. 9, September (1969), p. 1499

卷第9卷
期第5期
印刷ISSN0026-2714
文件大小114.46KB
发表时间1970
DOI10.1016/0026-2714(70)90403-8

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