Elimination of Stacking Fault in Si Epitaxial Layer by Heat Treatment
- 期刊名称Japanese Journal of Applied Physics
- 作者Suzuki, Takaya; Ura, Mitsuru; Ogawa, Takuzo
- 卷第11卷
- 期第5期
- 印刷ISSN0021-4922
- 电子ISSN1347-4065
- 文件大小1692.41KB
- 发表时间1972-5
- DOI10.1143/JJAP.11.666
- 页码666-672
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