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Measurements of electron channeling pattern linewidths in silicon

Measurements of electron channeling pattern linewidths in silicon

R. C. Farrow; D. C. Joy
  • 作者R. C. Farrow; D. C. Joy
  • 卷第2卷
  • 期第4期
  • 印刷ISSN0161-0457
  • 电子ISSN1932-8745
  • 文件大小1581.55KB
  • 发表时间1979
  • DOI10.1002/sca.4950020407
  • 页码249-254
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