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CIF: A new UV laser at 285 nm

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Diegelmann, M.; Hohla, K.; Kompa, K.

作者Diegelmann, M.; Hohla, K.; Kompa, K.
卷第15卷
期第9期
文件大小151.03KB
发表时间1979
DOI10.1109/jqe.1979.1070255
页码1005-1005

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