Reactive sputter etching of thin films for pattern delineation : R. N. Castellano. IEEE Trans. Components, Hybrids, Mfg Technol. Chmt-1, (4) 397 (December 1978)

• 卷第19卷
• 期第4期
• 印刷ISSN0026-2714
• 文件大小119.30KB
• 发表时间1979
• DOI10.1016/0026-2714(79)90138-0