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Etching characteristics of SiO2in CHF3gas plasma

Etching characteristics of SiO2in CHF3gas plasma

H. Toyoda; H. Komiya; H. Itakura
  • 作者H. Toyoda; H. Komiya; H. Itakura
  • 卷第9卷
  • 期第3期
  • 印刷ISSN0361-5235
  • 电子ISSN1543-186X
  • 文件大小989.58KB
  • 发表时间1980-05
  • DOI10.1007/bf02652937
  • 页码569-584
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