An optimally designed process for submicrometer MOSFET's

• 作者Shibata, T.; Hieda, K.; Sato, M.; Konaka, M.; Ryo Luong Mo Dang; Iizuka, H.
• 卷第29卷
• 期第4期
• 印刷ISSN0018-9383
• 电子ISSN1557-9646
• 文件大小617.70KB
• 发表时间1982
• DOI10.1109/t-ed.1982.20738
• 页码531-535