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5284. Deposition kinetics of SiO2 film: Masuhiko Maede and Hiroaki Nakamura, J Appl Phys, 52 (11), 1981, 6651–6654

5284. Deposition kinetics of SiO2 film: Masuhiko Maede and Hiroaki Nakamura, J Appl Phys, 52 (11), 1981, 6651–6654

  • 卷第32卷
  • 期第12期
  • 印刷ISSN0042-207X
  • 文件大小150.65KB
  • 发表时间1982
  • DOI10.1016/0042-207x(82)93880-5
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