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Instrumentation for XUV lithography at SURF-II

Instrumentation for XUV lithography at SURF-II

L.R. Hughey; R.T. Williams; J.C. Rife; D.J. Nagel; M.C. Peckerar

作者L.R. Hughey; R.T. Williams; J.C. Rife; D.J. Nagel; M.C. Peckerar
卷第195卷
印刷ISSN0167-5087
文件大小453.88KB
发表时间1982
DOI10.1016/0029-554x(82)90782-0
页码267-271

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