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Thermal oxidation of niobium silicide thin films

Thermal oxidation of niobium silicide thin films

Chow, T. P.; Hamzeh, K.; Steckl, A. J.
  • 期刊名称Journal of Applied Physics
  • 作者Chow, T. P.; Hamzeh, K.; Steckl, A. J.
  • 卷第54卷
  • 期第5期
  • 印刷ISSN0021-8979
  • 文件大小486.94KB
  • 发表时间1983
  • DOI10.1063/1.332297
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