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Etching Characteristics for Organosilica

Etching Characteristics for Organosilica

Endo, Nobuhiro; Matsui, Shinji

期刊名称Japanese Journal of Applied Physics
作者Endo, Nobuhiro; Matsui, Shinji
卷第22卷
印刷ISSN0021-4922
文件大小920.28KB
发表时间1983-2-20
DOI10.1143/JJAP.22.L109

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