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Polysiloxanes for deep UV lithography

Polysiloxanes for deep UV lithography

J.M. Shaw; M. Hatzakis; J. Parasczcak; E. Babich

作者J.M. Shaw; M. Hatzakis; J. Parasczcak; E. Babich
卷第3卷
印刷ISSN0167-9317
文件大小934.32KB
发表时间1985
DOI10.1016/0167-9317(85)90039-5
页码293-304

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