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Mechanism of silicon film deposition in the RF plasma reduction of silicon tetrachloride

Mechanism of silicon film deposition in the RF plasma reduction of silicon tetrachloride

G. Bruno; P. Capezzuto; G. Cicala; F. Cramarossa

作者G. Bruno; P. Capezzuto; G. Cicala; F. Cramarossa
卷第6卷
期第2期
印刷ISSN0272-4324
电子ISSN1572-8986
文件大小855.86KB
发表时间1986-06
DOI10.1007/bf00571271
页码109-125

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