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TEM investigations of the tungsten silicide films on silicon

TEM investigations of the tungsten silicide films on silicon

S.C. Tjong; I.C. Hsieh

作者S.C. Tjong; I.C. Hsieh
卷第22卷
期第6期
印刷ISSN0025-5408
文件大小435.28KB
发表时间1987
DOI10.1016/0025-5408(87)90039-0
页码841-847

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