Laser photochemical etching of silicon

• 作者S. Affrossman; R. T. Bailey; C. H. Cramer; F. R. Cruickshank; J. M. R. MacAllister; J. Alderman
• 卷第49卷
• 期第5期
• 印刷ISSN0947-8396
• 电子ISSN1432-0630
• 文件大小973.09KB
• 发表时间1989-11
• DOI10.1007/bf00617021
• 页码533-542