Low-temperature annealing of heavily ion-implanted layer
Tadahiro Ohmi; Yoshio Ishihara; Tadashi Shibata; Akira Okita
- 作者Tadahiro Ohmi; Yoshio Ishihara; Tadashi Shibata; Akira Okita
- 卷第73卷
- 期第6期
- 印刷ISSN8756-663X
- 电子ISSN1520-6432
- 文件大小498.23KB
- 发表时间1990
- DOI10.1002/ecjb.4420730610
- 页码86-91