Formation of buried and surface CoSi2 layers by ion implantation

• 作者M.F. Wu; A. Vantomme; H. Pattyn; G. Langouche; K. Maex; J. Vanhellemont; J. Vanacken; H. Vloeberghs; Y. Bruynseraede
• 卷第45卷
• 印刷ISSN0168-583X
• 文件大小1197.90KB
• 发表时间1990
• DOI10.1016/0168-583x(90)90920-p
• 页码658-663