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Post-irradiation formation of Si-SiO2interface states in a hydrogen atmosphere at room temperature

Post-irradiation formation of Si-SiO2interface states in a hydrogen atmosphere at room temperature

B. J. Mrstik

作者B. J. Mrstik
卷第20卷
期第10期
印刷ISSN0361-5235
电子ISSN1543-186X
文件大小764.56KB
发表时间1991-10
DOI10.1007/bf02669528
页码627-633

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