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Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of Copper Thin Films

Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition of Copper Thin Films

Lai, W. G.

期刊名称Journal of The Electrochemical Society
作者Lai, W. G.
卷第138卷
期第11期
印刷ISSN0013-4651
文件大小724.74KB
发表时间1991
DOI10.1149/1.2085441

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