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Oxide-nitride storage dielectrics on smooth and rough polycrystalline silicon layers

Fazan, P. C.; Ditali, A.; Mathews, V.; Chan, H. C.; Rhodes, H. E.; Liu, Y. C.; Dennison, C. H.

期刊名称Applied Physics Letters
作者Fazan, P. C.; Ditali, A.; Mathews, V.; Chan, H. C.; Rhodes, H. E.; Liu, Y. C.; Dennison, C. H.
卷第59卷
期第3期
印刷ISSN0003-6951
文件大小566.53KB
发表时间1991
DOI10.1063/1.105591