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Influence of epitaxy on the low temperature silicon diffusion through gold layers

Influence of epitaxy on the low temperature silicon diffusion through gold layers

A. Cros; H. Dallaporta; J.C. Oberlin
  • 作者A. Cros; H. Dallaporta; J.C. Oberlin
  • 印刷ISSN0169-4332
  • 文件大小690.47KB
  • 发表时间1992
  • DOI10.1016/0169-4332(92)90266-z
  • 页码434-437
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