Localized plasma etching for device optimization

• 期刊名称Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
• 作者Larson, Donald R.
• 卷第10卷
• 期第1期
• 印刷ISSN0734-211X
• 文件大小448.17KB
• 发表时间1992-1
• DOI10.1116/1.586347