Use of Selective Area Defect Creation for Isolation of III-V Multilayer Structures

Pearton, S. J.; Ren, F.; Fullowan, T. R.; Katz, A.; Hobson, W. S.; Abernathy, C. R.; Lothian, J. R.; D'asaro, L. A.; Elliman, R. G.; Ridgway, M. C.; Jagadish, C.; Williams, J. S.

期刊名称MRS Proceedings
作者Pearton, S. J.; Ren, F.; Fullowan, T. R.; Katz, A.; Hobson, W. S.; Abernathy, C. R.; Lothian, J. R.; D'asaro, L. A.; Elliman, R. G.; Ridgway, M. C.; Jagadish, C.; Williams, J. S.
卷第262卷
电子ISSN1946-4274
文件大小394.79KB
发表时间1992-1
DOI10.1557/proc-262-763

发现好书期刊，享受阅读乐趣

Use of Selective Area Defect Creation for Isolation of III-V Multilayer Structures