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ArF Laser Induced Photochemical Substitution of OH Radicals into Teflon Surface Using Al(OH)3 Solution

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Okoshi, M.; Kashiura, H.; Miyokawa, T.; Toyoda, K.; Murahara, M.

期刊名称MRS Proceedings
作者Okoshi, M.; Kashiura, H.; Miyokawa, T.; Toyoda, K.; Murahara, M.
卷第279卷
电子ISSN1946-4274
文件大小310.36KB
发表时间1992-1
DOI10.1557/proc-279-737

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