Particle behaviour in an electron cyclotron resonance plasma etch tool
M. G. Blain; G. D. Tipton; W. M. Holber; G. S. Selwyn; P. L. Westerfield; K. L. Maxwell
- 作者M. G. Blain; G. D. Tipton; W. M. Holber; G. S. Selwyn; P. L. Westerfield; K. L. Maxwell
- 文件大小548.14KB
- 发表时间1994
- DOI10.1088/0963-0252/3/3/014