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High-rate deposition of titanium silicides under high gas flow rate by chemical vapour deposition

High-rate deposition of titanium silicides under high gas flow rate by chemical vapour deposition

C. Kawai
  • 作者C. Kawai
  • 卷第13卷
  • 期第12期
  • 印刷ISSN0261-8028
  • 电子ISSN1573-4811
  • 文件大小359.68KB
  • 发表时间1994-06-15
  • DOI10.1007/bf00273230
  • 页码860-862
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