High current ion implantation by plasma immersion technique

R.W. Thomae; B. Seiler; H. Bender; J. Brutscher; R. Günzel; J. Halder; H. Klein; J. Müller; M. Sarstedt

作者R.W. Thomae; B. Seiler; H. Bender; J. Brutscher; R. Günzel; J. Halder; H. Klein; J. Müller; M. Sarstedt
卷第99卷
印刷ISSN0168-583X
文件大小332.09KB
发表时间1995
DOI10.1016/0168-583x(95)00228-6
页码569-572

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