Macrocrystalline silicon thin films prepared by RF reactive magnetron sputter deposition

• 作者MF Cerqueira; M Andritschky; L Rebouta; JA Ferreira; MF da Silva
• 卷第46卷
• 期第12期
• 印刷ISSN0042-207X
• 文件大小748.36KB
• 发表时间1995
• DOI10.1016/0042-207x(95)00158-1
• 页码1385-1390