Fast interfacial oxidation of amorphous Si1−xGex:H by SnO2
Edelman, F.; Brener, R.; Cytermann, C.; Eizenberg, M.; Weil, R.; Beyer, W.
- 期刊名称Applied Physics Letters
- 作者Edelman, F.; Brener, R.; Cytermann, C.; Eizenberg, M.; Weil, R.; Beyer, W.
- 卷第67卷
- 期第3期
- 印刷ISSN0003-6951
- 文件大小323.05KB
- 发表时间1995
- DOI10.1063/1.114638