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Theoretical investigations on electron trap generation by fluorine atoms in SiO2 film

Yokozawa, A.; Hirose, K.; Ishitani, A.; Kamoshida, M.; Hillenius, S.; Gilmer, G.; Raghavachari, K.

期刊名称Journal of Applied Physics
作者Yokozawa, A.; Hirose, K.; Ishitani, A.; Kamoshida, M.; Hillenius, S.; Gilmer, G.; Raghavachari, K.
卷第77卷
期第12期
印刷ISSN0021-8979
文件大小953.96KB
发表时间1995
DOI10.1063/1.359105