Effects of Cu and Si Dopants on Electromigration Mass Transport in Al Interconnects for VLSI

Lee, C. H.; Fejes, P. L.; York, B. R.; Elwell, S. A.; Carnes, R. O.; Lee, J. Y.; Grivna, G. M.; Bauguess, S. W.; Dreyer, M. L.; Edwards, S. R.

期刊名称MRS Proceedings
作者Lee, C. H.; Fejes, P. L.; York, B. R.; Elwell, S. A.; Carnes, R. O.; Lee, J. Y.; Grivna, G. M.; Bauguess, S. W.; Dreyer, M. L.; Edwards, S. R.
卷第403卷
电子ISSN1946-4274
文件大小1325.85KB
发表时间1995-1
DOI10.1557/proc-403-507

发现好书期刊，享受阅读乐趣