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Modelling of an reactive magnetron discharge used for deposition of chromium oxide

Modelling of an reactive magnetron discharge used for deposition of chromium oxide

Trennepohl, W; Bretagne, J; Gousset, G; Pagnon, D; Touzeau, M

期刊名称Plasma Sources Science and Technology
作者Trennepohl, W; Bretagne, J; Gousset, G; Pagnon, D; Touzeau, M
卷第5卷
期第4期
印刷ISSN0963-0252
电子ISSN1361-6595
文件大小367.33KB
发表时间1996-11-01
DOI10.1088/0963-0252/5/4/002
页码607-621

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