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Advanced resist processing for thick photoresist applications

Advanced resist processing for thick photoresist applications

E. Cullmann; B. Loechel; A. Maciossek; M. Rothe

作者E. Cullmann; B. Loechel; A. Maciossek; M. Rothe
卷第30卷
印刷ISSN0167-9317
文件大小1760.76KB
发表时间1996
DOI10.1016/0167-9317(95)00307-x
页码551-554

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