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Masks for high aspect ratio x-ray lithography

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C. K. Malek; K. H. Jackson; W. D. Bonivert; J. Hruby

作者C. K. Malek; K. H. Jackson; W. D. Bonivert; J. Hruby
文件大小425.63KB
发表时间1996
DOI10.1088/0960-1317/6/2/004

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