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Atomic layer controlled deposition of Al2O3 films using binary reaction sequence chemistry

Atomic layer controlled deposition of Al2O3 films using binary reaction sequence chemistry

A.W. Ott; K.C. McCarley; J.W. Klaus; J.D. Way; S.M. George
  • 作者A.W. Ott; K.C. McCarley; J.W. Klaus; J.D. Way; S.M. George
  • 卷第107卷
  • 印刷ISSN0169-4332
  • 文件大小779.18KB
  • 发表时间1996
  • DOI10.1016/s0169-4332(96)00503-x
  • 页码128-136
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