Modeling and experiments of waveform effects on oxide charging in plasma immersion ion implantation [MOS ICs]

• 作者En, W.G.; Cheung, N.W.
• 卷第44卷
• 期第3期
• 印刷ISSN0018-9383
• 电子ISSN1557-9646
• 文件大小335.58KB
• 发表时间1997
• DOI10.1109/16.556147
• 页码379-387