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Low temperature, plasma assisted oxidation of amorphous Si

Low temperature, plasma assisted oxidation of amorphous Si

V. Girault; H. Plantier; R.A.B. Devine; F. Templier

作者V. Girault; H. Plantier; R.A.B. Devine; F. Templier
卷第216卷
印刷ISSN0022-3093
文件大小745.32KB
发表时间1997
DOI10.1016/s0022-3093(97)00119-1

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