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Negative photoresists for optical lithography

Negative photoresists for optical lithography

J. M. Shaw; J. D. Gelorme; N. C. Labianca; W. E. Conley; S. J. Holmes
  • 作者J. M. Shaw; J. D. Gelorme; N. C. Labianca; W. E. Conley; S. J. Holmes
  • 卷第41卷
  • 期第1期
  • 文件大小1609.72KB
  • 发表时间1997
  • DOI10.1147/rd.411.0081
  • 页码81-94
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