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Anisotropic-etching simulation of InP and Si

Anisotropic-etching simulation of InP and Si

M Chahoud; H.-H Wehmann; A Schlachetzki

作者M Chahoud; H.-H Wehmann; A Schlachetzki
卷第63卷
期第2期
印刷ISSN0924-4247
文件大小410.26KB
发表时间1997
DOI10.1016/s0924-4247(97)01535-5
页码141-146

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