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The effect of subsurface doping on gate oxide charging damage

The effect of subsurface doping on gate oxide charging damage

Linder, B.P.; En, W.G.; Cheung, N.W.
  • 作者Linder, B.P.; En, W.G.; Cheung, N.W.
  • 卷第26卷
  • 期第6期
  • 印刷ISSN0093-3813
  • 电子ISSN1939-9375
  • 文件大小210.16KB
  • 发表时间1998
  • DOI10.1109/27.747880
  • 页码1628-1634
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