Ellipsometric Investigations on SiO2/Si: The Interface Response

• 作者G. Jungk; Ch. Jungk; T. Grabolla
• 卷第215卷
• 期第1期
• 印刷ISSN0370-1972
• 电子ISSN1521-3951
• 文件大小169.82KB
• 发表时间1999
• DOI10.1002/(sici)1521-3951(199909)215:1<731::aid-pssb731>3.0.co;2-o
• 页码731-736