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Deposition rate in modulated radio-frequency silane plasmas

Deposition rate in modulated radio-frequency silane plasmas

Biebericher, A. C. W.; Bezemer, J.; van der Weg, W. F.; Goedheer, W. J.

期刊名称Applied Physics Letters
作者Biebericher, A. C. W.; Bezemer, J.; van der Weg, W. F.; Goedheer, W. J.
卷第76卷
期第15期
印刷ISSN0003-6951
文件大小302.23KB
发表时间2000
DOI10.1063/1.126235

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