Titanium oxide films on Si(100) deposited by electron-beam evaporation at 250 °C

H. K. Jang; S. W. Whangbo; H. B. Kim; K. Y. Im; Y. S. Lee; I. W. Lyo; C. N. Whang; G. Kim; H. Lee; J. M. Lee

作者H. K. Jang; S. W. Whangbo; H. B. Kim; K. Y. Im; Y. S. Lee; I. W. Lyo; C. N. Whang; G. Kim; H. Lee; J. M. Lee
文件大小570.46KB
发表时间2000
DOI10.1116/1.582275

发现好书期刊，享受阅读乐趣