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Connecting disorder and magnetic properties in CoFe thin films

Connecting disorder and magnetic properties in CoFe thin films

Freeland, J. W.; Bussmann, K.; Idzerda, Y. U.

期刊名称Applied Physics Letters
作者Freeland, J. W.; Bussmann, K.; Idzerda, Y. U.
卷第76卷
期第18期
印刷ISSN0003-6951
文件大小300.29KB
发表时间2000
DOI10.1063/1.126422

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