Oxygen stability, diffusion, and precipitation in SiC: Implications for thin-film oxidation

• 作者Massimiliano di Ventra; Sokrates T. Pantelides
• 卷第29卷
• 期第3期
• 印刷ISSN0361-5235
• 电子ISSN1543-186X
• 文件大小146.54KB
• 发表时间2000
• DOI10.1007/s11664-000-0076-6
• 页码353-358