发现好书期刊，享受阅读乐趣

海量图书期刊资源，随时随地畅享阅读乐趣

Stacked FRAM capacitor etching process for high density application

Joo, S. H.; Lee, J. J.; Lee, K. M.; Nam, S. D.; Lee, S. W.; Oh, S. J.; Lee, Y. T.; Park, S. O.; Kang, H. K.; Moon, J. T.

期刊名称Integrated Ferroelectrics
作者Joo, S. H.; Lee, J. J.; Lee, K. M.; Nam, S. D.; Lee, S. W.; Oh, S. J.; Lee, Y. T.; Park, S. O.; Kang, H. K.; Moon, J. T.
卷第37卷
印刷ISSN1058-4587
电子ISSN1607-8489
文件大小497.34KB
发表时间2001-01
DOI10.1080/10584580108015670
页码103-111