Pattern placement correction methodology for 200 mm SCALPEL masks
L. E. Ocola; R. C. Farrow; R. J. Kasica; C. G. Caminos; L. Rutberg; R. F. Fullowan; K. Teffeau; M. I. Blakey; M. L. Peabody; C. S. Knurek; G. R. Bogart; A. E. Novembre; J. A. Liddle; M. Lercel; C. Magg; K. Collins; M. Trybendis; N. Cadwell; R. Jeffer; W. J. Dauksher; D. J. Resnick; D. Mancini; S. I. Han; Z. Masnyj; K. Smith; P. J. S. Mangat
- 作者L. E. Ocola; R. C. Farrow; R. J. Kasica; C. G. Caminos; L. Rutberg; R. F. Fullowan; K. Teffeau; M. I. Blakey; M. L. Peabody; C. S. Knurek; G. R. Bogart; A. E. Novembre; J. A. Liddle; M. Lercel; C. Magg; K. Collins; M. Trybendis; N. Cadwell; R. Jeffer; W. J. Dauksher; D. J. Resnick; D. Mancini; S. I. Han; Z. Masnyj; K. Smith; P. J. S. Mangat
- 文件大小1223.72KB
- 发表时间2001
- DOI10.1116/1.1412891