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Spectroscopic ellipsometry study of ion-implanted Si(100) wafers

Spectroscopic ellipsometry study of ion-implanted Si(100) wafers

Tsunoda, Kazuaki; Adachi, Sadao; Takahashi, Mitsutoshi
  • 期刊名称Journal of Applied Physics
  • 作者Tsunoda, Kazuaki; Adachi, Sadao; Takahashi, Mitsutoshi
  • 卷第91卷
  • 期第5期
  • 印刷ISSN0021-8979
  • 文件大小352.68KB
  • 发表时间2002
  • DOI10.1063/1.1446231
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