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Wavelet-based uniformity of plasma etching surface

Wavelet-based uniformity of plasma etching surface

Byungwhan Kim, ; Sungmo Kim, ; Myo Taeg Lim,
  • 期刊名称IEEE Transactions on Plasma Science
  • 作者Byungwhan Kim, ; Sungmo Kim, ; Myo Taeg Lim,
  • 卷第31卷
  • 期第6期
  • 印刷ISSN0093-3813
  • 文件大小1043.60KB
  • 发表时间2003-12
  • DOI10.1109/TPS.2003.820967
  • 页码1313-1316
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