Silicon thin films deposited at very low substrate temperatures

M. Ito; K. Ro; S. Yoneyama; Y. Ito; H. Uyama; T. Mates; M. Ledinsky; K. Luterova; P. Fojtik; H. Stuchlikova; A. Fejfar; J. Kocka

作者M. Ito; K. Ro; S. Yoneyama; Y. Ito; H. Uyama; T. Mates; M. Ledinsky; K. Luterova; P. Fojtik; H. Stuchlikova; A. Fejfar; J. Kocka
卷第442卷
印刷ISSN0040-6090
文件大小114.75KB
发表时间2003
DOI10.1016/s0040-6090(03)00965-9
页码163-166

发现好书期刊，享受阅读乐趣